最近，我系10级本科生刘雨露同学在倪振华教授指导下，以第一作者身份在国际高水平期刊ACS Nano（影响因子11.421）上发表了题为”Layer-by-layer thinning of MoS2 by plasma”的重要文章(http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nn400644t)。该论文提出了一种利用Ar+ Plasma(氩等离子体)从原子层面上精确控制二维纳米材料二硫化钼（MoS2）的方法。二硫化钼是一种新型的二维材料，具有非常优异的电学、力学及光学性能。其能带结构及发光、吸收等性能随厚度变化而显著变化（如单层为直接带隙，多层为间接带隙半导体），在光电器件中有非常好的应用前景。该研究提出的Plasma thinning的方法，能实现二硫化钼厚度的逐层精确控制（一层为~0.6nm），且处理后的样品没有任何缺陷，并能够进行大范围处理，为二硫化钼在光电探测等领域的应用提供了基础。该工作也得到了南京大学王欣然教授以及js666金沙大厅登录入口电子学院孙立涛教授课题组的协助。
刘雨露同学从本科2年级开始就在倪振华教授课题组中参与科研工作。2011年11月刘雨露同学获得了美国物理联合会（AIP）大学生组织Society of Physics Students(SPS)的Undergraduate Research Award，并得到SPS美国总部经费支持开展了“Controlled Growth of Graphene by Chemical Vapor Deposition”的研究项目。2012年11月刘雨露与东大其他五位同学赴美国参加大学生物理学年会（PhysCon），并获得了Honorable Mention奖（参加评奖总人数为194人，获奖5人）。
